九游会登录-j9.com-九游会官网登录九游会

    半导体装备 Semiconductor

    VERIC A6151A

    SiC高温退火炉

    联系咨询
    VERIC A6151A SiC高温退火炉
    VERIC A6151A SiC High-Temp Anneal Furnace
    VERIC A6151A SiC高温退火炉具有无金属、长寿命的加热系统及特殊设计的高可靠工艺腔室,具备在氩气、氮气和氢气等气体氛围下的高温退火工艺,温度可达2000℃。主要应用SiC高温离子注入后的高温激活退火,刻蚀后的沟槽平滑等,还可用于GaN晶圆中的掺杂活化及AlN晶体高温退火工艺。
    设备特点
    • 温度可达2000℃,升温速度快
    • 激活率高,表面粗糙度小
    • 水冷加热,环境温升小
    • 石墨电阻加热,工艺腔室洁净
    • 自动装片Cassette to Cassette
    • 安全设计,符合CE,SEMI S6标准
    产品应用
    • 晶圆尺寸
      4/6英寸兼容
    • 适用材料
      碳化硅、氮化铝
    • 适用工艺
      注入后激活、Ar退火、Ar/H₂退火、沟槽平滑
    • 适用领域
      化合物半导体,衬底材料,科研
    分享我们:
    微信扫一扫
    联系我们
    官方公众号
    九游会